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2013-2

ナノ複合化によるガラス精密研磨用CMP砥粒の材料設計と開発


技術のポイント

化学反応性および機械作用性に優れた材料をナノ複合化して優れたガラス研磨用砥粒を開発

基礎研究


背景
フラットパネルディスプレイやHDD基板用ガラスの製造過程ではガラス精密研磨技術が重要である。JFCCでは特性が異なる材料を用いたナノ複合化によるガラス精密研磨用CMP砥粒開発を行っている。

目的
「ナノ複合化」によって、ガラス研磨における化学作用性と機械作用性を両立可能な優れたCMP用砥粒を開発する。

成果
(1) ナノ複合化を用いたガラス研磨用新規CMP砥粒を材料設計。
(2) 噴霧熱分解法でナノ複合化砥粒を合成し、研磨特性を評価。
(3) 合成した砥粒は優れたCMP特性を示した。


・砥粒合成:噴霧熱分解法  
・研磨対象:LCD用(アルミノホウ珪酸)ガラス
図2. SrZrO3-CeO2系およびSrZrO3-ZrO2
ナノ複合砥粒の研磨特性
図1. 新規CMP砥粒開発コンセプト



今後の展開
・微細組織の更なる最適化
・ガラス研磨における砥粒スラリー寿命評価
高性能ガラス精密研磨用砥粒の開発

特願 2011-225238「研磨材料、研磨用組成物及び研磨方法」、特願2013-40110「研磨材料」
参考文献 T. Honma, S. Suda, K. Kawahara, K. Kinoshota, J. Ceram. Soc. JPN., 120, 295-299 (2012).
謝辞 この成果は(独)新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)「希少金属代替材料開発プロジェクト」の委託業務の結果得られたものである。



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