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R-26
2016

金属塩アルコール溶液を原料とした静電噴霧CVDプロセスの開発


技術のポイント

静電噴霧を用いて金属塩アルコール溶液を原料供給し、レーザーを援用することでZnO膜の成膜に成功した

基礎研究


背景
通常、熱レーザーCVDは基板をレーザーで加熱し、原料ガスを供給することにより成膜を行う。原料には反応性が高い有機金属化合物が用いられるが、原料コストが高いことが課題である

目的
金属塩アルコール溶液を原料とした静電噴霧レーザーCVDによるセラミックス膜の成膜プロセスを開発する

成果
金属塩アルコール溶液を原料とし静電噴霧を原料供給としたレーザーCVDにより結晶性ZnO膜を合成した
成膜速度:5〜10 μm/h
(002)配向, 微構造:針状晶または柱状晶
*有機物添加により微構造制御可能


レーザーを援用した静電噴霧CVDの模式図
静電噴霧レーザーCVDによるZnO膜
(a) レーザー照射なし (b) 80W (c) 80W表面
(d)80W:有機物添加



期待される適応分野
大気圧下でのCVD低コストプロセス

関連特許 特許: 2016-10285, 2015-61593



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