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R-35
2017

ガス分離膜の低欠陥合成手法


技術のポイント

基材内外の圧力差を精密にコントロールすることにより膜欠陥を1/10に抑制

実用化研究


背景
ガスを分子サイズで篩分けするためにはサブナノオーダーの細孔径制御技術が必要であり、水素選択透過性向上には膜欠陥の低減が不可欠である

目的
メソポーラス細孔内への原料の供給を精密制御し、分離活性層の欠陥生成を低減する

成果
(1) 水素透過率と水素選択透過性を同時に向上
(2) 高い成膜再現性を実現


アモルファスシリカ系水素分離膜の構造

圧力制御型対向拡散CVD装置概略図

差圧制御による中間層内での膜形成
差圧制御とガス透過特性の関係



期待される適用分野
膜反応器用ガス分離膜

謝辞 本研究は、科学研究費補助金基盤研究C(26420772)からの支援を受けて実施したものである



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