スパッタリングによる高機能薄膜合成

ようこそJFCCへ | JFCC概要
研究棟 | 多光子顕微鏡による３次元欠陥解析 | パワーデバイス結晶欠陥の解析評価 | パワーデバイス単結晶基板結晶面反りの3D可視化 | 焼結シミュレーション（SinterPro） | 噴霧熱分解装置による粒子合成
５Ｇ（誘電率、電波吸収体）高精度評価技術 | 粉体・スラリー・成形体等特性評価 | 燃料電池・固体電解質の 電気化学評価 | 絶縁性・導電性の抵抗率評価 | 熱伝導率・比熱容量・熱膨張率評価技術
第一原理計算に基づくマテリアルズインフォマティクスによる新材料探索 | 層状ペロブスカイト構造のイオン伝導機構 | 第一原理MDによる有限温度伝導経路計算 | 半導体結晶点欠陥濃度の理論解析 | 複合アニオン化合物のイオン伝導機構の理論解析
室温から高温の機械特性評価 | 連続高温曲げ試験評価 | 高温酸素透過率評価による物質移動解析 | 高温X線回折によるIn-situ評価 | スパッタリングによる高機能薄膜合成 | 太陽光⇒熱エネルギー変換膜 | X線CTによる3D非破壊評価技術 | バイオ：人工股関節評価技術
電顕棟 | 査電子顕微鏡による高度解析技術 | 走査電子顕微鏡によるEBSD解析 | 液中観察可能大気圧走査電子顕微鏡 | FIB-SEMによる3D評価解析 | ホログラフィー電子顕微鏡 | 原子分解能STEMとEELS分析 | 透過電子顕微鏡（環境TEM）によるその場観察
第１実験棟 | 各種焼結設備による支援 | EB-PVDによるセラミックコーティング技術
第２実験棟 | 原料調整・粉体処理設備による支援 | AD法によるセラミック膜の常温形成技術 | 高温過熱水蒸気による脱脂技術

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