2012-1 |
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・手法: | 異なる混合割合のNiO-SDC/SrFeO3(SF)界面導入層を用いた単セルの構築(図1) |
・評価: | 電流遮断法によるオーム損と過電圧損の分離測定 厚さが異なる電解質を用いて燃料極/電解質界面抵抗を評価 |
図1. 従来セルと界面導入層を用いたセルの電極構築熱処理による界面反応の模式図 |
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2012年度
2012-1 |
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・手法: | 異なる混合割合のNiO-SDC/SrFeO3(SF)界面導入層を用いた単セルの構築(図1) |
・評価: | 電流遮断法によるオーム損と過電圧損の分離測定 厚さが異なる電解質を用いて燃料極/電解質界面抵抗を評価 |
図1. 従来セルと界面導入層を用いたセルの電極構築熱処理による界面反応の模式図 |
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