2018年度

JFCC研究成果集

未来社会を創出する革新材料開発と先端解析技術

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T-5
2018

電子ビームPVDによるコーティング技術


技術のポイント

電子ビームPVD(国内唯一の大型装置)により、様々な基材に高速でセラミックスコーティングが可能



保有技術

電子ビームPVD装置
電子ビーム(EB)-PVDは蒸着原料を電子ビームで直接加熱・蒸
発させることにより、従来技術では困難であった高融点セラミック
スの高速成膜が可能なコーティング方法

電子ビームPVD装置
ジルコニア等の高融点酸化物セラミックスを
1分間に数μmの堆積速度でコーティングできる
成膜パラメータを精密に制御することにより膜厚
や構造を精密に制御できる
・電子銃  最高出力150kW(国内最高)
・蒸着源  2基(φ63mm2基)
・基板サイズ  最大φ100mm×100mmL、5kgまで
・基板加熱温度  最高1100℃
・基板回転速度  0〜30rpm
・到達真空度  10-4Pa台

成果/活用例
EB-PVDによるYSZ膜の構造制御
(a)緻密膜、(b)柱状・羽毛状構造膜
EB-PVDによる遮熱コーティング(TBC)システム



適用分野

・耐熱・耐環境分野:ガスタービン用遮熱コーティング
・高温機能性分野:電極、触媒、センサー
・その他:透明導電膜、光学膜、半導体膜



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