T-2
2019

新規材料開発・研究に貢献するセラミックス製造技術

特色ある装置群を活用した高度な原料調整・成形・焼結等のプロセス技術により、材料開発・実用化を強力に支援

振動流動乾燥機

スプレードライヤー

冷間等方圧加圧装置（CIP）

①	:	スラリーを減圧下で加熱・振動させて凝集が弱い乾燥体を作製可能・加熱温度：～80℃ ・処理量：～1000mL ・雰囲気：減圧
②	:	処理容器：φ450×300mmH
③	:	バッチ式処理により異物混入を防止

①	:	水系、アルコール系のスラリーを噴霧して球状粒子に乾燥可能・噴霧方式：ディスク式・雰囲気：大気、N₂ ・最高温度：180℃
②	:	処理室：φ800mm

加圧脱脂炉

高温雰囲気炉

熱間等方圧加圧装置（HIP）

①	:	炉内にガスを流しながら熱処理可能・雰囲気：大気、Ar、N₂ ・雰囲気圧力：～0.9MPa ・雰囲気流量：100～1000L/hr ・最高温度：500℃
②	:	処理容器：φ400×600mmL

①	:	高温雰囲気にて一軸加圧焼成が可能・雰囲気：減圧、Ar 、N₂ ・雰囲気圧力：～0.9MPa（Ar、N₂）・最高温度：2200℃ ・最大荷重：10ton
②	:	処理容器：φ100mm等（一軸加圧）　　　　　φ170×165mmH（雰囲気）

①	:	高温ガス雰囲気にて等方圧加圧　が可能・ガス種：Ar、N₂ ・最高温度：1800℃ ・最高圧力：186MPa
②	:	処理容器　φ100×4G～200mmH

・原料粉末に焼結助剤・バインダー等の添加剤を加えた複合粉末の作製
・各種形状の成形および等方圧加圧成形による成形体の作製
・高温ガス中および真空中での雰囲気焼結およびホットプレス焼結
・高温高圧の等方圧加圧処理による高緻密焼結体の作製