JFCC保有特許をご活用ください
JFCCが保有する登録特許(2024/8/15現在)
発明名称 | 登録番号 | |
1 | 耐水蒸気性多孔質膜、耐水蒸気性多孔質複合体及びこれらの製造方法 | 5430089 |
2 | 炭化珪素単結晶の欠陥検出方法 | 5519305 |
3 | 熱反射材 | 6032539 |
4 | リチウムイオン伝導性酸化物の製造方法 | 6200169 |
5 | 半導体ウェハのエッチング方法、半導体ウェハの製造方法および半導体ウェハの結晶欠陥検出方法 | 6329733 |
6 | 結晶配向セラミックス積層材料及びその製造方法 | 6331083 |
7 | 窒化物系半導体基板のエッチング方法および窒化物系半導体膜の作成方法 | 6461593 |
8 | 窒化物系半導体のエッチング方法および窒化物系半導体の結晶欠陥検出方法 | 6574104 |
9 | 膜形成方法 | 6640456 |
10 | 積層構造 | 6649115 |
11 | 膜形成方法 | 6717663 |
12 | セラミックス成形体の製造方法及びそれに用いる製造装置 | 6754305 |
13 | 多孔質アルミナ粒子材料の製造方法 | 6803176 |
14 | セラミックス成形体の製造方法 | 6835578 |
15 | 窒化物系半導体の非極性面のエッチング方法および窒化物系半導体の非極性面における結晶欠陥の検出方法 | 6890979 |
16 | 焼結方法及び焼結物の製造方法 | 6956489 |
17 | 炭素繊維の熱処理方法 | 6959721 |
18 | 焼結方法及び焼結物の製造方法 | 6959790 |
19 | 多孔質アルミナ焼結体及びその製造方法 | 6961428 |
20 | 多孔質ジルコニア焼結体の製造方法 | 7029227 |
21 | 反応観察方法及び層状隔壁式封止物品 | 7085421 |
22 | 遮熱コーティング用材料 | 7129381 |
23 | リチウムイオン伝導性酸化物の製造方法 | 7203536 |
24 | 転位の評価方法および転位の評価を行うためのコンピュータプログラム | 7228440 |
25 | 炭化珪素膜の製造方法 | 7292089 |
26 | ガス分離材およびその製造方法 | 7420473 |
27 | 窒化物セラミックスの焼結方法及び焼結物の製造方法 | 7429575 |
28 | 接合方法 | 7467191 |
29 | 光ファイバ | 7386087 |
30 | 炭化珪素繊維及びその製造方法 | 7489230 |
31 | アルミナ多孔質体及びその製造方法 | 7537861 |
特許についてのお問い合わせ等がございましたら、下記までご連絡ください。
〒456-8587 名古屋市熱田区六野二丁目4番1号
(一財) ファインセラミックスセンター 研究企画部
TEL 052-871-3500
FAX 052-871-3599
e-mail: patent@
(※メール発信は@の後ろに jfcc.or.jp を付けて送付ください)